PECVD
PECVD (Plazma güýçlendirilen himiki bug çöketligi) inçe filmleri substratlaryň üstünde goýmak üçin ulanylýan tehnologiýa.
Principleörelge esasan aşakdaky ädimleri öz içine alýar:
1. Gaz prekursorlaryny girizmek:reaksiýa kamerasyna belli bir gaz prekursorlary (silan, ammiak we ş.m.) arkaly. Bu gazlar, zerur şertlerde dargap, berk film emele getirer.
2. Plazma öndürmek:Plazma ýokary ýygylykly elektrik meýdanyny ýa-da göni tok meýdanyny ulanyp reaksiýa kamerasynda emele gelýär. Bu amal gaz molekulalaryny tolgundyrýar, ionlaşdyrýar we zarýadly bölejikleri (elektronlar, ionlar we ş.m.) we bitarap bölejikleri döredýär.
3. Himiki reaksiýa:Plazmanyň täsiri astynda, gaz desgasy substratyň üstünde inçe film döretmek üçin işjeň görnüşlere (atomlar, molekulalar we ş.m.) bölünýär. Plazmanyň bolmagy sebäpli reaksiýanyň derejesi adatça ýokary bolup, ýylylyga duýgur materiallar üçin amatly edip, pes temperaturada goýulyp bilner.
4. Inçe filmleriň ýerleşdirilmegi:Işjeň görnüşler substratyň üstünde jemlenýär we gaty filmleri emele getirmek üçin himiki reaksiýalara sezewar bolýar. Depolasiýa prosesinde temperatura, basyş we gaz akymy ýaly parametrleriň sazlanmagy filmiň hiline we häsiýetine täsir edip biler.
5. Inçe film aýratynlyklaryna gözegçilik:Öňki, görnüşini, akym tizligini, reaksiýa basyşyny we plazma güýjüni üýtgetmek bilen, elektrik, optiki we mehaniki aýratynlyklaryny sazlamak üçin kremniý nitrid, kremniniň oksidi we ş.m. ýaly dürli inçe filmleriň çökmegi amala aşyrylyp bilner.
PECVD ýarymgeçirijilerde, optoelektron enjamlarynda, gün öýjüklerinde we beýleki ugurlarda giňden ulanylýar we inçe filmiň hili we çöketlik şertlerinde artykmaçlyklary bilen bahalandyrylýar.
