Напыление.PVD

1. Покрытие, нанесенное методом магнетронного распыления, намного лучше покрытия, нанесенного методом ионно-дугового распыления, и в нем меньше крупных капельных частиц.

2. Сила связи пленка-подложка лучше, чем у покрытия вакуумным испарением. В технологии покрытия вакуумным испарением энергия атомов в слое пленки - это только тепловая энергия, переносимая во время испарения, что эквивалентно 00,1~0,2 эВ; в то время как в технологии покрытия магнетронным распылением энергия частиц слоя пленки генерируется ионами аргона и поверхностными атомами мишени. Обмен и обмен импульсами могут улучшить силу связи мембрана-основа.

3. Состав слоя пленки близок к материалу мишени. Слой пленки магнетронного распыления распыляется с мишени ионами аргона, и состав слоя пленки очень близок к составу материала мишени. Получающееся в результате явление «фракционирования» или «разложения» относительно легкое по сравнению с напылением. Однако, как правило, при покрытии функциональной пленки с очень строгими требованиями к производительности, определенное количество реактивного газа должно быть добавлено во время процесса распыления, чтобы состав составной пленки пленки соответствовал стехиометрическому соотношению для обеспечения эксплуатационных требований пленки.

4. Покрытие имеет хорошие эксплуатационные характеристики. Вакуумное давление распыляемого покрытия низкое. Длина свободного пробега молекул газа короткая, вероятность столкновения высокая, и по сравнению с напыляемым покрытием рассеивающая способность частиц пленки сильная, эксплуатационные характеристики покрытия хорошие, а толщина пленки равномерная.

5. Распыляемая мишень представляет собой источник покрытия площадного типа. Длина как плоской магнетронной мишени распыления, так и цилиндрической магнетронной мишени может достигать 300~3000 мм. Хотя оба являются линейными источниками покрытия, в сочетании с непрерывным движением заготовки, покрытие может быть нанесено на большую площадь деталей. Если пленка нанесена на стеклянную поверхность шириной 3300 мм, можно получить равномерный слой пленки с различными цветами и пропусканием. Магнетронное распыление широко используется для нанесения тонких пленок большой площади.

6. Используйте напряжение смещения для заготовки. Сначала в технологии магнетронного распыления. В настоящее время технология нанесения покрытий магнетронным распылением широко используется на металлических подложках, а приложение отрицательного напряжения смещения к заготовке для улучшения качества слоя пленки стало основной технологией для покрытия специальных функциональных пленок и высококачественных декоративных изделий.