Laadplaat voor halfgeleiderverpakking en continue coatinglijn voor passieve componenten
Korte beschrijving van de machine
Het is een verticale of horizontale productielijn die speciaal is ontworpen voor de oppervlaktecoating van chipweerstanden, diverse keramische passieve componenten, IC-dragerplaten en printplaten (PCB's). De machine is voorzien van een geautomatiseerd sputtercoatingsysteem met een volledig geautomatiseerd regelmechanisme, wat zeer nauwkeurige sputterbewerkingen mogelijk maakt en een uniforme coatingdikte over alle dragerplaten en componenten garandeert. De machine is uitgerust met een geavanceerd monitoringsysteem dat realtime monitoring van productieparameters mogelijk maakt. Het structurele ontwerp van de machine is zowel rationeel als robuust, wat zorgt voor een stabiele werking en eenvoudig onderhoud. Dit ontwerp bevordert een continue productie op lange termijn en garandeert zo de stabiliteit van het productieproces en de kwaliteit van de eindproducten.
producteigenschap
- .1. Hoge efficiëntie, hoog volume, goede stabiliteit en herhaalbaarheid;
- .2. Door het toepassen van de magnetron sputtering coatingmethode kan het volledig automatische continue coating, enkelzijdige of dubbelzijdige coating realiseren;
- .3. Twee soorten structuren: verticaal of horizontaal.
- .4. Het is geschikt voor de coatingbehandeling van verschillende soorten halfgeleiderbehuizingsdragerplaten en chipbehuizingsdragerplaten om hun prestaties en betrouwbaarheid te verbeteren, en voor de oppervlaktecoating van passieve componenten, zoals weerstanden, condensatoren en andere componenten om hun elektrische prestaties en duurzaamheid te verbeteren.
- .5. Of het nu gaat om grootschalige industriële productie of om kleinschalige maatwerkproductie, de apparatuur kan efficiënte en stabiele coatingoplossingen bieden.
- .6. Een hoge mate van automatisering, met behulp van geavanceerde automatische besturingssystemen, minimaliseert handmatige tussenkomst en verbetert de stabiliteit en consistentie van productieprocessen.
TECHNISCHE PARAMETER
| Serie | CJLX/CJLW-serie |
| Technologie | Magnetron Sputtering |
| Kamergrootte | Kan op verzoek worden ontworpen. |
| Substraatmateriaal | Passieve keramische componenten zoals weerstanden en condensatoren; |
| Coatingfilm | Metaalfilm (Ti, Cr, Ag, Al) of meerdere lagen; |
| Vacuümsysteem | Vacuümsysteem selecteer internationaal bekende merken of Chinese bekende merken moleculaire pompen (of diffusiepompen), polycold, mechanische pompen, etc. |
01




