Plasmareiniging

Plasma is, net als vast, vloeibaar of gas, een aggregatietoestand, ook wel de vierde aggregatietoestand genoemd. Door voldoende energie aan het gas toe te voegen om het te ioniseren, verandert het in een plasmatoestand. De "actieve" componenten van plasma omvatten: ionen, elektronen, actieve groepen, geëxciteerde nucliden (metastabiele toestand), fotonen, enz. Het plasma-oppervlaktebehandelingsinstrument gebruikt de eigenschappen van deze actieve componenten om het monsteroppervlak te behandelen en zo de doelen van reiniging, modificatie, fotoresistverassing, enz. te bereiken.

De structuur van de plasmareinigingsmachine bestaat hoofdzakelijk uit drie hoofdonderdelen: de besturingseenheid, de vacuümkamer en de vacuümpompen.

De voordelen van plasmareiniging zijn als volgt:

I) Het te reinigen object is na plasmareiniging droog en kan zonder verdere droging naar het volgende proces worden gestuurd. Dit kan de verwerkingsefficiëntie van de gehele proceslijn verbeteren;

2) Plasmareiniging zorgt ervoor dat gebruikers de schadelijke effecten van oplosmiddelen op het menselijk lichaam kunnen vermijden. Ook voorkomt het het probleem van snelle schade aan het te reinigen object bij nat reinigen.

3) Vermijd het gebruik van schadelijke oplosmiddelen zoals trichloorethaan, zodat er na het reinigen geen schadelijke stoffen vrijkomen. Deze reinigingsmethode is daarom een ​​milieuvriendelijke, groene reinigingsmethode. Dit wordt steeds belangrijker, aangezien de wereld veel aandacht besteedt aan milieubescherming.

4) Plasma dat wordt gegenereerd door hoge frequenties in het radiogolfbereik verschilt van direct licht, zoals lasers. Plasma is niet erg richtingsgevoelig, waardoor het in de kleine gaatjes en holtes van een object kan doordringen om de reinigingstaak uit te voeren. Er hoeft dus niet al te veel rekening te worden gehouden met de vorm van het te reinigen object. Bovendien is het reinigingseffect op deze moeilijk te reinigen plekken vergelijkbaar met of zelfs beter dan dat van freonreiniging;

5) Plasmareiniging kan de reinigingsefficiëntie aanzienlijk verbeteren. Het hele reinigingsproces kan binnen enkele minuten worden voltooid, waardoor het een hoge opbrengst heeft;

6) De vacuümgraad die voor plasmareiniging moet worden gecontroleerd, is ongeveer 100 Pa, en deze reinigingsconditie is eenvoudig te bereiken. De apparatuurkosten voor dit apparaat zijn daarom laag en het reinigingsproces vereist geen gebruik van dure organische oplosmiddelen, waardoor de totale kosten lager zijn dan bij traditioneel nat reinigen.

7) Plasmareiniging vermijdt het transport, de opslag en de lozing van reinigingsvloeistoffen, waardoor de productielocatie gemakkelijk schoon en hygiënisch kan worden gehouden;

8) Plasmareiniging kan worden gebruikt ongeacht het te behandelen object. Het kan een verscheidenheid aan materialen behandelen, of het nu gaat om metaal, halfgeleider, oxide of polymeer (zoals polypropyleen, polyvinylchloride, polytetrafluorethyleen, polyimide, polyester, epoxyhars en andere polymeren). Daarom is het bijzonder geschikt voor hittebestendige en oplosmiddelbestendige materialen. Bovendien kan de gehele, gedeeltelijke of complexe structuur van het materiaal selectief worden gereinigd;

9) Tijdens het reinigen en decontamineren kunnen ook de oppervlakte-eigenschappen van het materiaal zelf worden verbeterd. Zo zijn het verbeteren van de bevochtigingseigenschappen van het oppervlak en het verbeteren van de hechting van de folie in veel toepassingen zeer belangrijk.