Sputtering.PVD
1. Il-kisi ta 'sputtering tal-Magnetron huwa ħafna aħjar mill-kisi tal-jone tal-ark, u hemm inqas partiċelli ta' qtar oħxon.
2. Il-forza tat-twaħħil tal-film-substrat hija aħjar minn dik tal-kisi tal-evaporazzjoni bil-vakwu. Fit-teknoloġija tal-kisi tal-evaporazzjoni bil-vakwu, l-enerġija tal-atomi fis-saff tal-film hija biss l-enerġija tas-sħana li tinġarr matul l-evaporazzjoni, li hija ekwivalenti għal 00.1 ~ 0.2eV; filwaqt li fit-teknoloġija tal-kisi tal-magnetron sputtering, l-enerġija tal-partiċelli tas-saff tal-film hija ġġenerata mill-joni tal-argon u l-atomi tal-wiċċ tal-mira. L-iskambju u l-iskambju tal-momentum jistgħu jtejbu l-forza tal-irbit tal-bażi tal-membrana.
3. Il-kompożizzjoni tas-saff tal-film hija qrib il-materjal fil-mira. Is-saff tal-film tal-magnetron sputtering huwa sputtered mill-mira minn joni tal-argon, u l-kompożizzjoni tas-saff tal-film hija qrib ħafna ta 'dik tal-materjal fil-mira. Il-fenomenu ta ' "frazzjonament" jew "dekompożizzjoni" li jirriżulta huwa relattivament ħafif meta mqabbel mal-kisi tal-evaporazzjoni. Madankollu, ġeneralment meta kisi film funzjonali b'rekwiżiti ta 'prestazzjoni stretti ħafna, ċertu ammont ta' gass reattiv għandu jiżdied matul il-proċess ta 'sputtering biex il-kompożizzjoni tal-film kompost tal-film tissodisfa l-proporzjon stojkjometriku biex tiżgura r-rekwiżiti tal-prestazzjoni tal-film.
4. Il-kisi għandu prestazzjoni tajba tal-kisi. Il-pressjoni tal-vakwu tal-kisi sputtering hija baxxa. Il-mogħdija ħielsa tal-molekuli tal-gass hija qasira, il-probabbiltà tal-ħabta hija għolja, u meta mqabbla mal-kisi tal-evaporazzjoni, il-kapaċità tat-tifrix tal-partiċelli tal-film hija qawwija, il-prestazzjoni tal-kisi hija tajba, u l-ħxuna tal-film hija uniformi.
5. Il-mira ta 'sputtering hija sors ta' kisi tat-tip ta 'żona. It-tul kemm tal-pjan Magnetron sputtering mira u l-mira magnetron ċilindriku jistgħu jilħqu 300 ~ 3000 mm. Għalkemm it-tnejn huma sorsi ta 'kisi lineari, flimkien mal-moviment kontinwu tal-biċċa tax-xogħol, tista' tkun miksija fuq żona kbira ta 'partijiet. Jekk film huwa miksi fuq wiċċ tal-ħġieġ b'wisa 'ta' 3300mm, jista 'jinkiseb saff ta' film uniformi b'kuluri u trażmissjoni differenti. Magnetron sputtering intuża ħafna fid-depożitu ta 'films irqaq ta' żona kbira.
6. Uża vultaġġ bias għall-biċċa tax-xogħol. Għall-ewwel, fit-teknoloġija Magnetron sputtering. Illum il-ġurnata, it-teknoloġija tal-kisi tal-magnetron sputtering tintuża ħafna fuq sottostrati tal-metall, u l-applikazzjoni ta 'vultaġġ ta' preġudizzju negattiv għall-biċċa tax-xogħol biex tittejjeb il-kwalità tas-saff tal-film saret it-teknoloġija mainstream għall-kisi ta 'films funzjonali speċjali u prodotti dekorattivi high-end.
