Penyejatan Rintangan
1>. Penyejatan vakum
Penyejatan vakum, yang disebut sebagai penyejatan, merujuk kepada kaedah proses penyejatan bahan salutan (atau bahan filem) dan mengewapkannya dengan kaedah pemanasan dan penyejatan tertentu di bawah keadaan vakum, dan zarah-zarah terbang ke permukaan substrat untuk membentuk filem. Penyejatan ialah teknologi pemendapan wap yang lebih awal dan paling banyak digunakan, yang mempunyai kelebihan kaedah pembentukan filem yang mudah, ketulenan tinggi dan kekompakan filem nipis, dan struktur dan prestasi filem yang unik.
2>. Prinsip kerja
Proses fizikal penyejatan termasuk: penyejatan atau pemejalwapan bahan termendap menjadi zarah gas→ pengangkutan pantas zarah gas dari sumber penyejatan ke permukaan substrat→ zarah gas melekat pada permukaan substrat untuk nukleus, tumbuh menjadi filem pepejal→ penyusunan semula atom filem nipis atau menghasilkan ikatan kimia.
Substrat diletakkan di dalam ruang vakum dan dipanaskan dengan rintangan, pancaran elektron, laser dan kaedah lain untuk menyejat atau menyublimkan bahan filem dan mengewapkannya menjadi zarah (atom, molekul atau kelompok) dengan tenaga tertentu (0.1~0.3eV). Zarah gas diangkut ke substrat dalam gerakan linear yang pada asasnya bebas perlanggaran, dan beberapa zarah yang mencapai permukaan substrat dipantulkan, dan bahagian yang lain diserap pada substrat dan merebak di permukaan, mengakibatkan perlanggaran dua dimensi antara atom yang dimendapkan untuk membentuk kelompok, dan sesetengahnya mungkin tinggal di permukaan dan kemudian menguap. Kelompok zarah sentiasa berlanggar dengan zarah meresap, sama ada menjerap atau memancarkan zarah tunggal. Proses ini diulang berulang kali, dan apabila bilangan zarah yang terkumpul melebihi nilai kritikal tertentu, ia menjadi nukleus yang stabil, dan kemudian terus menjerap dan meresap zarah dan secara beransur-ansur berkembang, dan akhirnya membentuk filem nipis berterusan melalui sentuhan dan penggabungan nukleus stabil bersebelahan.
3>. Parameter utama
Tekanan wap tepu (PV): Tekanan di mana wap bahan tersejat dalam ruang vakum berada dalam keseimbangan dengan pepejal atau cecair pada suhu tertentu. Keluk hubungan antara tekanan wap tepu dan suhu adalah sangat penting untuk teknologi fabrikasi filem, yang boleh membantu kita memilih bahan penyejatan secara rasional dan menentukan keadaan penyejatan.
