Sputtering.PVD
1. Magnetron Sputtering Beschichtung ass vill besser wéi Bogenionbeschichtung, an et gi manner grober Tropfpartikelen.
2. D'Filmsubstratverbindungskraaft ass besser wéi déi vun der Vakuumverdampfungsbeschichtung. An der Vakuum Verdampfungsbeschichtungstechnologie ass d'Energie vun den Atomer an der Filmschicht nëmmen d'Hëtztenergie, déi während der Verdampfung gedroe gëtt, wat gläichwäerteg ass mat 00.1 ~ 0.2eV; wärend an der Magnetron Sputtering Beschichtungstechnologie gëtt d'Energie vun de Filmschichtpartikelen vun den Argonionen an den Uewerflächatome vum Zil generéiert. Den Austausch an den Dréimomentaustausch kënnen d'Membran-Basis Bindungskraaft verbesseren.
3. D'Zesummesetzung vun der Filmschicht ass no beim Zilmaterial. D'Filmschicht vum Magnetron-Sputtering gëtt aus dem Zil duerch Argon-Ionen gesputtert, an d'Zesummesetzung vun der Filmschicht ass ganz no bei där vum Zilmaterial. Déi doraus resultéierend "Fraktioun" oder "Zersetzung" Phänomen ass relativ liicht am Verglach mat Verdampfung plating. Wéi och ëmmer, allgemeng wann Dir e funktionnelle Film mat ganz strikte Leeschtungsfuerderunge beschichtet, muss e gewësse Betrag u reaktivem Gas während dem Sputterprozess bäigefüügt ginn fir datt d'Compoundfilm Zesummesetzung vum Film dem stoichiometresche Verhältnis entsprécht fir d'Leeschtungsfuerderunge vum Film ze garantéieren.
4. D'Beschichtung huet gutt Beschichtungsleistung. De Vakuumdrock vun der Sputterbeschichtung ass niddereg. De fräie Wee vu Gasmoleküle ass kuerz, d'Kollisiounswahrscheinlechkeet ass héich, a verglach mat der Verdampfungsbeschichtung ass d'Streuungsfäegkeet vu Filmpartikelen staark, d'Beschichtungsleistung ass gutt, an d'Filmdicke ass eenheetlech.
5. Sputtering Zil ass e Beräich Typ Beschichtung Quell. D'Längt vum Fliger Magnetron Sputtering Zil an dem zylindresche Magnetron Zil kann 300 ~ 3000 mm erreechen. Och wa béid linear Beschichtungsquellen sinn, gekoppelt mat der kontinuéierlecher Bewegung vum Werkstéck, kann et op e grousst Gebitt vun Deeler beschichtet ginn. Wann e Film op enger Glasoberfläche mat enger Breet vun 3300mm beschichtet ass, kann eng eenheetlech Filmschicht mat verschiddene Faarwen a Transmittance kritt ginn. Magnetron Sputtering gouf wäit benotzt fir grouss Fläch dënn Filmer ze deposéieren.
6. Benotzen Bias Volt un der workpiece. Am Ufank, an der Magnetron Sputtering Technologie. Hautdesdaags gëtt d'Magnetron Sputtering Beschichtungstechnologie vill op Metallsubstrater benotzt, an d'Uwendung vun negativ Virausspannung op d'Werkstéck fir d'Qualitéit vun der Filmschicht ze verbesseren ass d'Mainstream Technologie ginn fir speziell funktionell Filmer an High-End dekorativ Produkter ze beschichten.
