電子ビーム蒸着

電子ビーム蒸着は物理蒸着法の一種です。従来の蒸着法とは異なり、電子ビーム蒸着は電磁場の調整を利用して高エネルギー電子をるつぼ内のターゲット材料に正確に照射し、溶融させて基板上に堆積させます。電子ビーム蒸着は高純度で高精度な膜を堆積できます。

電子ビーム蒸着は、加速された電子を用いてコーティング材料を照射する。電子の運動エネルギーは熱エネルギーに変換され、コーティング材料を加熱蒸発させて膜を形成する。電子銃は、直噴式、リング式、E型に分けられる。電子ビーム加熱蒸着の特徴は、最大10⁻⁻⁻⁻という極めて高いエネルギー密度が得られ、加熱温度は3000～6000℃に達する。高融点金属や化合物を蒸発させることができ、蒸発した材料は水冷るつぼに入れられ、るつぼ材料の汚染を防ぐ。電子ビーム蒸着は高純度の膜を作製することができる。同時に、複数のるつぼを同一の蒸着装置内に設置することで、様々な物質の同時または個別蒸着を実現することができる。ほとんどの材料は電子ビーム蒸着によって蒸発させることができる。

電子ビーム蒸着は高融点材料の蒸着が可能で、一般的な抵抗加熱蒸着に比べて熱効率が高く、ビーム密度が大きく、蒸着速度が速いという特徴があります。得られる薄膜は高純度で高品質であり、膜厚も正確に制御可能です。高純度薄膜や導電性ガラスなど、様々な光学材料薄膜の製造に広く利用されています。

電子ビーム蒸着は、Al、CO、Ni、Fe の合金または酸化物膜、SiO2、ZrO2 膜、耐腐食性および耐高温性酸化物膜の作成によく使用されます。

機能面では、電子ビームコーティング技術には次のような特徴があります。

I) 高精度コーティング：フィルムの厚さと組成を正確に制御し、特定の特性を持つフィルムを作成できます。

2) 強力な調整機能: フィルムの物理的および化学的特性は、さまざまな用途のニーズに合わせて簡単に調整できます。

3). 高品質のフィルム: 製造されたフィルムは均一性、密度、安定性に優れています。

4) 幅広い用途: 金属、半導体、酸化物など、さまざまな材料のコーティングに適しています。