Evaporazione a fascio elettronico

L'evaporazione a fascio di elettroni è un tipo di deposizione fisica da vapore. A differenza dei metodi di evaporazione tradizionali, l'evaporazione a fascio di elettroni utilizza il coordinamento di campi elettromagnetici per ottenere con precisione l'impiego di elettroni ad alta energia per bombardare il materiale bersaglio nel crogiolo, fonderlo e quindi depositarlo sul substrato. L'evaporazione a fascio di elettroni può depositare film ad alta purezza e precisione.

L'evaporazione a fascio di elettroni utilizza elettroni accelerati per bombardare il materiale di rivestimento. L'energia cinetica degli elettroni viene convertita in energia termica per riscaldare ed evaporare il materiale di rivestimento e formare una pellicola. I cannoni elettronici si dividono in diretti, ad anello ed E. Le caratteristiche dell'evaporazione a fascio di elettroni sono la possibilità di ottenere densità energetiche estremamente elevate, fino a 109 W/cm², e la temperatura di riscaldamento che può raggiungere i 3000-6000 °C. Può evaporare metalli o composti refrattari; il materiale evaporato viene posto in un crogiolo raffreddato ad acqua per evitare la contaminazione del materiale del crogiolo. La deposizione per evaporazione a fascio di elettroni può preparare pellicole ad elevata purezza. Allo stesso tempo, è possibile posizionare più crogioli nello stesso dispositivo di deposizione per evaporazione per ottenere l'evaporazione e la deposizione simultanee o separate di una varietà di sostanze diverse. La maggior parte dei materiali può essere evaporata mediante evaporazione a fascio di elettroni.

L'evaporazione a fascio di elettroni può evaporare materiali ad alto punto di fusione. Presenta una maggiore efficienza termica, una maggiore densità del fascio e una velocità di evaporazione più elevata rispetto all'evaporazione a resistenza. Il film prodotto presenta elevata purezza e buona qualità. Lo spessore può essere controllato con precisione. Può essere ampiamente utilizzato per preparare vari film di materiali ottici, come film ad alta purezza e vetro conduttivo.

L'evaporazione a fascio di elettroni è spesso utilizzata per preparare pellicole di leghe o di ossidi di Al, CO, Ni e Fe, pellicole di SiO2, ZrO2 e pellicole di ossidi resistenti alla corrosione e alle alte temperature.

In termini di funzionalità, la tecnologia di rivestimento a fascio di elettroni presenta le seguenti caratteristiche:

I) Rivestimento ad alta precisione: consente di ottenere un controllo preciso dello spessore e della composizione della pellicola, preparando così pellicole con proprietà specifiche.

2) Elevata adattabilità: le proprietà fisiche e chimiche della pellicola possono essere facilmente regolate per soddisfare le esigenze di diverse applicazioni.

3). Pellicola di alta qualità: la pellicola preparata presenta buona uniformità, densità e stabilità.

4) Ampia gamma di applicazioni: adatto per il rivestimento di una varietà di materiali, tra cui metalli, semiconduttori, ossidi, ecc.