Penguapan Resistif

Penguapan vakum, yang disebut sebagai penguapan, mengacu pada metode proses penguapan bahan pelapis (atau bahan film) dan penguapannya melalui metode pemanasan dan penguapan tertentu dalam kondisi vakum, dan partikel-partikel tersebut terbang ke permukaan substrat untuk membentuk film. Penguapan merupakan teknologi pengendapan uap yang paling awal dan paling banyak digunakan, yang memiliki keunggulan metode pembentukan film yang sederhana, kemurnian dan kekompakan film tipis yang tinggi, serta struktur dan kinerja film yang unik.

Proses fisik penguapan meliputi: penguapan atau sublimasi material yang diendapkan menjadi partikel gas → pengangkutan cepat partikel gas dari sumber penguapan ke permukaan substrat → partikel gas menempel pada permukaan substrat untuk berinti, tumbuh menjadi lapisan padat → penyusunan kembali atom-atom lapisan tipis atau menghasilkan ikatan kimia.

Substrat ditempatkan dalam ruang vakum dan dipanaskan dengan resistansi, sinar elektron, laser, dan metode lain untuk menguapkan atau menyublimkan bahan film dan menguapkannya menjadi partikel (atom, molekul, atau gugus) dengan energi tertentu (0,1~0,3eV). Partikel gas diangkut ke substrat dalam gerakan linier yang pada dasarnya bebas tumbukan, dan beberapa partikel yang mencapai permukaan substrat dipantulkan, dan bagian lainnya diserap pada substrat dan menyebar di permukaan, sehingga terjadi tumbukan dua dimensi antara atom yang diendapkan untuk membentuk gugus, dan beberapa mungkin bertahan di permukaan untuk waktu yang singkat dan kemudian menguap. Gugusan partikel terus-menerus bertabrakan dengan partikel difus, baik menyerap atau memancarkan partikel tunggal. Proses ini diulang berulang kali, dan ketika jumlah partikel yang terkumpul melebihi nilai kritis tertentu, ia menjadi inti yang stabil, dan kemudian terus menyerap dan menyebarkan partikel dan secara bertahap tumbuh, dan akhirnya membentuk film tipis terus menerus melalui kontak dan penggabungan inti stabil yang berdekatan.

Tekanan uap jenuh (PV): Tekanan di mana uap dari material yang diuapkan dalam ruang vakum berada dalam kesetimbangan dengan padatan atau cairan pada suhu tertentu. Kurva hubungan antara tekanan uap jenuh dan suhu sangat penting untuk teknologi fabrikasi film, yang dapat membantu kita memilih material penguapan secara rasional dan menentukan kondisi penguapan.