Pembersihan Plasma

Plasma, seperti padatan, cairan, atau gas, adalah wujud materi, yang juga disebut wujud materi keempat. Menerapkan energi yang cukup pada gas untuk mengionisasinya akan mengubahnya menjadi wujud plasma. Komponen "aktif" plasma meliputi: ion, elektron, gugus aktif, nuklida tereksitasi (wujud metastabil), foton, dll. Instrumen perawatan permukaan plasma menggunakan sifat-sifat komponen aktif ini untuk merawat permukaan sampel, sehingga mencapai tujuan pembersihan, modifikasi, pengabuan fotoresist, dll.

Struktur mesin pembersih plasma terutama dibagi menjadi tiga bagian utama, unit kontrol, ruang vakum dan pompa vakum.

Keuntungan pembersihan plasma adalah sebagai berikut:

I) Objek pembersih kering setelah pembersihan plasma dan dapat dikirim ke proses berikutnya tanpa pengeringan lebih lanjut. Hal ini dapat meningkatkan efisiensi pemrosesan seluruh lini proses;

2) Pembersihan plasma memungkinkan pengguna menjauhi bahaya pelarut berbahaya bagi tubuh manusia, dan juga menghindari masalah kerusakan mudah pada objek pembersih dalam pembersihan basah;

3) Hindari penggunaan pelarut yang berbahaya bagi lingkungan seperti trikloroetana, sehingga tidak akan dihasilkan polutan berbahaya setelah pembersihan, sehingga metode pembersihan ini merupakan metode pembersihan hijau yang ramah lingkungan. Hal ini menjadi semakin penting karena dunia menaruh perhatian yang besar terhadap perlindungan lingkungan;

4) Plasma yang dihasilkan oleh frekuensi tinggi dalam jangkauan gelombang radio berbeda dengan cahaya langsung seperti laser. Plasma tidak terlalu terarah, yang memungkinkannya menembus lubang-lubang kecil dan ceruk suatu objek untuk menyelesaikan tugas pembersihan, sehingga tidak perlu terlalu mempertimbangkan bentuk objek yang dibersihkan. Selain itu, efek pembersihan pada area yang sulit dibersihkan ini serupa atau bahkan lebih baik daripada pembersihan Freon;

5) Penggunaan plasma cleaning dapat meningkatkan efisiensi pembersihan secara signifikan. Seluruh proses pembersihan dapat diselesaikan dalam beberapa menit, sehingga memiliki karakteristik hasil yang tinggi;

6) Tingkat vakum yang perlu dikontrol untuk pembersihan plasma adalah sekitar 100 Pa, dan kondisi pembersihan ini mudah dicapai. Oleh karena itu, biaya peralatan perangkat ini tidak tinggi, dan proses pembersihan tidak memerlukan penggunaan pelarut organik yang mahal, yang membuat biaya keseluruhan lebih rendah daripada proses pembersihan basah tradisional;

7) Pembersihan plasma menghindari pengangkutan, penyimpanan, dan pembuangan cairan pembersih, sehingga lokasi produksi mudah dijaga kebersihan dan higienisnya;

8) Pembersihan plasma dapat digunakan tanpa memandang objek perawatan. Pembersihan ini dapat menangani berbagai material, baik itu logam, semikonduktor, oksida, atau material polimer (seperti polipropilena, polivinil klorida, politetrafluoroetilena, polimida, poliester, resin epoksi, dan polimer lainnya). Oleh karena itu, pembersihan ini sangat cocok untuk material yang tahan panas dan tahan pelarut. Selain itu, struktur material secara keseluruhan, sebagian, atau kompleks dapat dibersihkan secara selektif;

9) Saat menyelesaikan pembersihan dan dekontaminasi, sifat permukaan material itu sendiri juga dapat ditingkatkan. Misalnya, meningkatkan sifat pembasahan permukaan dan meningkatkan daya rekat film sangat penting dalam banyak aplikasi.