Penguapan E-Beam

Penguapan berkas elektron merupakan salah satu jenis pengendapan uap fisik. Tidak seperti metode penguapan tradisional, penguapan berkas elektron menggunakan koordinasi medan elektromagnetik untuk mencapai penggunaan elektron berenergi tinggi secara akurat guna membombardir material target dalam wadah peleburan, melelehkannya, lalu mengendapkannya pada substrat. Penguapan berkas elektron dapat mengendapkan film dengan kemurnian dan presisi tinggi.

Penguapan berkas elektron menggunakan elektron yang dipercepat untuk membombardir bahan pelapis. Energi kinetik elektron diubah menjadi energi panas untuk memanaskan dan menguapkan bahan pelapis dan membentuk film. Senjata elektron dibagi menjadi tipe langsung, cincin dan E. Karakteristik penguapan pemanasan berkas elektron adalah dapat memperoleh kepadatan energi yang sangat tinggi, hingga 109w/cm2, dan suhu pemanasan dapat mencapai 3000-6000℃. Dapat menguapkan logam atau senyawa tahan api; bahan yang diuapkan ditempatkan dalam wadah yang didinginkan air untuk menghindari kontaminasi bahan wadah. Deposisi penguapan berkas elektron dapat menyiapkan film dengan kemurnian tinggi. Pada saat yang sama, beberapa wadah dapat ditempatkan dalam perangkat deposisi penguapan yang sama untuk mencapai penguapan dan deposisi simultan atau terpisah dari berbagai zat yang berbeda. Sebagian besar bahan dapat diuapkan dengan penguapan berkas elektron.

Penguapan berkas elektron dapat menguapkan material dengan titik leleh tinggi. Efisiensi termalnya lebih tinggi, kepadatan berkas lebih besar, dan kecepatan penguapan lebih cepat daripada penguapan pemanasan resistansi umum. Film yang dihasilkan memiliki kemurnian tinggi dan kualitas yang baik. Ketebalannya dapat dikontrol secara akurat. Dapat digunakan secara luas untuk menyiapkan berbagai film material optik seperti film dengan kemurnian tinggi dan kaca konduktif.

Penguapan berkas elektron sering digunakan untuk menyiapkan film paduan atau oksida Al, CO, Ni, dan Fe, film SiO2, ZrO2, dan film oksida tahan korosi dan tahan suhu tinggi.

Dari segi fungsi, teknologi pelapisan berkas elektron memiliki karakteristik sebagai berikut:

I) Pelapisan presisi tinggi: Dapat mencapai kontrol presisi terhadap ketebalan dan komposisi film, sehingga menyiapkan film dengan sifat tertentu.

2) Penyesuaian yang kuat: Sifat fisik dan kimia film dapat dengan mudah disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan aplikasi yang berbeda.

3) Film berkualitas tinggi: Film yang disiapkan memiliki keseragaman, kepadatan, dan stabilitas yang baik.

4) Jangkauan aplikasi yang luas: Cocok untuk pelapisan berbagai bahan, termasuk logam, semikonduktor, oksida, dll.