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प्रतिरोधक वाष्पीकरण

टेकसन निर्वात वाष्पीकरण का बुनियादी ज्ञान

1>. वैक्यूम वाष्पीकरण
वैक्यूम वाष्पीकरण, जिसे वाष्पीकरण के रूप में संदर्भित किया जाता है, कोटिंग सामग्री (या फिल्म सामग्री) को वाष्पित करने और वैक्यूम स्थितियों के तहत एक निश्चित हीटिंग और वाष्पीकरण विधि द्वारा इसे वाष्पीकृत करने की प्रक्रिया विधि को संदर्भित करता है, और कण एक फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट की सतह पर उड़ते हैं। वाष्पीकरण एक पुरानी और सबसे व्यापक रूप से इस्तेमाल की जाने वाली वाष्प जमाव तकनीक है, जिसमें सरल फिल्म बनाने की विधि, पतली फिल्म की उच्च शुद्धता और कॉम्पैक्टनेस और अद्वितीय फिल्म संरचना और प्रदर्शन के फायदे हैं।
2>. कार्य सिद्धांत
वाष्पीकरण की भौतिक प्रक्रिया में शामिल हैं: निक्षेपित पदार्थ का वाष्पीकरण या उर्ध्वपातन, गैसीय कणों में परिवर्तित होना, वाष्पीकरण स्रोत से सब्सट्रेट की सतह तक गैसीय कणों का तीव्र परिवहन, गैसीय कण सब्सट्रेट की सतह से जुड़कर नाभिक बनाते हैं, ठोस फिल्म में विकसित होते हैं, पतली फिल्म परमाणुओं का पुनर्गठन या रासायनिक बंधन का निर्माण करते हैं।
सब्सट्रेट को वैक्यूम चैंबर में रखा जाता है और फिल्म सामग्री को वाष्पित या उदात्त करने के लिए प्रतिरोध, इलेक्ट्रॉन बीम, लेजर और अन्य तरीकों से गर्म किया जाता है और इसे एक निश्चित ऊर्जा (0.1 ~ 0.3eV) के साथ कणों (परमाणुओं, अणुओं या समूहों) में वाष्पीकृत किया जाता है। गैसीय कणों को एक रैखिक गति में सब्सट्रेट में ले जाया जाता है जो मूल रूप से टकराव-मुक्त होता है, और सब्सट्रेट की सतह पर पहुंचने वाले कुछ कण परावर्तित हो जाते हैं, और दूसरा भाग सब्सट्रेट पर अवशोषित हो जाता है और सतह पर फैल जाता है, जिसके परिणामस्वरूप जमा परमाणुओं के बीच दो-आयामी टकराव होते हैं और समूह बनते हैं, और कुछ थोड़े समय के लिए सतह पर रह सकते हैं और फिर वाष्पित हो सकते हैं। कणों के समूह लगातार विसरित कणों से टकरा रहे हैं, या तो एकल कणों को सोख रहे हैं या उत्सर्जित कर रहे हैं। यह प्रक्रिया बार-बार दोहराई जाती है, और जब एकत्रित कणों की संख्या एक निश्चित महत्वपूर्ण मूल्य से अधिक हो जाती है, तो यह एक स्थिर नाभिक बन जाता है, और फिर कणों को सोखना और फैलाना जारी रखता है और धीरे-धीरे बढ़ता है, और अंत में आसन्न स्थिर नाभिकों के संपर्क और विलय के माध्यम से एक सतत पतली फिल्म बनाता है।
3>. मुख्य पैरामीटर
संतृप्ति वाष्प दाब (PV): वह दाब जिस पर निर्वात कक्ष में वाष्पित पदार्थ का वाष्प एक निश्चित तापमान पर ठोस या तरल के साथ संतुलन में होता है। संतृप्ति वाष्प दाब और तापमान के बीच संबंध वक्र फिल्म निर्माण प्रौद्योगिकी के लिए बहुत महत्वपूर्ण है, जो हमें वाष्पीकरण सामग्री का तर्कसंगत रूप से चयन करने और वाष्पीकरण की स्थिति निर्धारित करने में मदद कर सकता है।

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