Sputtering.PVD
1. Magnetron sputtering coating is folle better as arc ion coating, en der binne minder grof droplet dieltsjes.
2. De film-substraat bonding krêft is better as dy fan vacuum evaporation coating. Yn de fakuüm ferdamping coating technology, de enerzjy fan 'e atomen yn' e film laach is allinnich de waarmte enerzjy droegen tidens ferdamping, dat is lykweardich oan 00.1 ~ 0.2eV; wylst yn de magnetron sputtering coating technology, de enerzjy fan de film laach dieltsjes wurdt generearre troch de argon ioanen en de oerflak atomen fan it doel. De útwikseling en momentum útwikseling kin ferbetterje de membraan-basis binende krêft.
3. De gearstalling fan 'e filmlaach is tichtby it doelmateriaal. De filmlaach fan magnetron sputtering wurdt sputtered út it doel troch argon ioanen, en de gearstalling fan de film laach is hiel ticht by dy fan it doel materiaal. De resultearjende "fractionation" of "ûntbining" fenomeen is relatyf licht yn ferliking mei evaporation plating. Lykwols, yn 't algemien by it beklaaien fan in funksjonele film mei heul strikte prestaasjeseasken, moat in bepaalde hoemannichte reaktyf gas tafoege wurde tidens it sputterproses om de gearstalde filmkomposysje fan' e film te foldwaan oan 'e stoichiometryske ferhâlding om de prestaasjeseasken fan' e film te garandearjen.
4. De coating hat goede coating prestaasjes. De fakuümdruk fan sputterende coating is leech. It frije paad fan gasmolekulen is koart, de kâns op botsing is heech, en yn ferliking mei ferdampingscoating is it ferspriedingsfermogen fan filmdieltsjes sterk, de coatingprestaasje is goed, en de filmdikte is unifoarm.
5. Sputtering doel is in gebiet type coating boarne. De lingte fan sawol it fleantúch Magnetron sputtering doel en it silindryske magnetron doel kin berikke 300 ~ 3000 mm. Hoewol't beide binne lineêre coating boarnen, keppele oan de trochgeande beweging fan it workpiece, it kin wurde coated op in grut gebiet fan dielen. As in film wurdt coated op in glêzen oerflak mei in breedte fan 3300mm, kin in unifoarm film laach mei ferskillende kleuren en transmittance wurde krigen. Magnetron sputtering is in protte brûkt by it dellizzen fan tinne films mei grut gebiet.
6. Brûk bias spanning oan it workpiece. Earst, yn 'e Magnetron-sputtertechnology. Tsjintwurdich wurdt magnetron sputtering coating technology in soad brûkt op metalen substraten, en it tapassen fan negative bias spanning oan it workpiece te ferbetterjen de kwaliteit fan de film laach is wurden de mainstream technology foar coating spesjale funksjonele films en hege-ein dekorative produkten.
