Pulverización catódica.PVD

1. El recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón es mucho mejor que el recubrimiento por iones de arco y hay menos partículas de gotas gruesas.

2. La fuerza de unión entre la película y el sustrato es superior a la del recubrimiento por evaporación al vacío. En la tecnología de recubrimiento por evaporación al vacío, la energía de los átomos en la capa de película es únicamente la energía térmica transportada durante la evaporación, equivalente a 0,1-0,2 eV; mientras que en la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, la energía de las partículas de la capa de película es generada por los iones de argón y los átomos superficiales del objetivo. El intercambio de momento y de momento puede mejorar la fuerza de unión entre la membrana y la base.

3. La composición de la capa de película es similar a la del material objetivo. La capa de película de pulverización catódica por magnetrón se pulveriza desde el objetivo mediante iones de argón, y su composición es muy similar a la del material objetivo. El fenómeno de fraccionamiento o descomposición resultante es relativamente leve en comparación con el recubrimiento por evaporación. Sin embargo, generalmente, al recubrir una película funcional con requisitos de rendimiento muy estrictos, se debe añadir cierta cantidad de gas reactivo durante el proceso de pulverización catódica para que la composición de la película cumpla con la relación estequiométrica y garantice los requisitos de rendimiento de la película.

4. El recubrimiento tiene un buen rendimiento. La presión de vacío del recubrimiento por pulverización catódica es baja. El recorrido libre de las moléculas de gas es corto, la probabilidad de colisión es alta y, en comparación con el recubrimiento por evaporación, la capacidad de dispersión de las partículas de la película es alta, el rendimiento del recubrimiento es bueno y el espesor de la película es uniforme.

5. El objetivo de pulverización catódica es una fuente de recubrimiento de área. La longitud tanto del objetivo de pulverización catódica de magnetrón plano como del objetivo de pulverización catódica de magnetrón cilíndrico puede alcanzar de 300 a 3000 mm. Si bien ambos son fuentes de recubrimiento lineales, junto con el movimiento continuo de la pieza de trabajo, permiten recubrir una gran superficie de piezas. Si se aplica una película sobre una superficie de vidrio con un ancho de 3300 mm, se puede obtener una capa uniforme con diferentes colores y transmitancia. La pulverización catódica de magnetrón se ha utilizado ampliamente para depositar películas delgadas de gran superficie.

6. Aplicar tensión de polarización a la pieza de trabajo. Inicialmente, se utilizaba en la tecnología de pulverización catódica con magnetrón. Actualmente, la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón se utiliza ampliamente en sustratos metálicos, y la aplicación de una tensión de polarización negativa a la pieza de trabajo para mejorar la calidad de la capa de película se ha convertido en la tecnología principal para el recubrimiento de películas funcionales especiales y productos decorativos de alta gama.