El plasma, al igual que el sólido, el líquido o el gas, es un estado de la materia, también llamado cuarto estado. Al aplicar suficiente energía al gas para ionizarlo, este se transforma en plasma. Los componentes "activos" del plasma incluyen: iones, electrones, grupos activos, nucleidos excitados (estado metaestable), fotones, etc. El instrumento de tratamiento de superficies con plasma aprovecha las propiedades de estos componentes activos para tratar la superficie de la muestra, logrando así la limpieza, modificación, incineración de fotorresistentes, etc.
La estructura de la máquina de limpieza de plasma se divide principalmente en tres partes principales: la unidad de control, la cámara de vacío y las bombas de vacío.
Las ventajas de la limpieza con plasma son las siguientes:
I) El objeto de limpieza queda seco tras la limpieza con plasma y puede enviarse al siguiente proceso sin necesidad de secado adicional. Esto mejora la eficiencia de procesamiento de toda la línea.
2) La limpieza con plasma permite a los usuarios mantenerse alejados del daño de los solventes dañinos para el cuerpo humano y también evita el problema de dañar fácilmente el objeto de limpieza en la limpieza húmeda;
3) Evite el uso de disolventes dañinos que producen SAO, como el tricloroetano, para evitar la producción de contaminantes nocivos tras la limpieza. Este método de limpieza es ecológico y respetuoso con el medio ambiente. Esto cobra cada vez más importancia a medida que el mundo presta mayor atención a la protección del medio ambiente.
4) El plasma generado por altas frecuencias en el rango de ondas de radio es diferente de la luz directa, como los láseres. El plasma no es muy direccional, lo que le permite penetrar en los pequeños orificios y recovecos de un objeto para completar la limpieza, por lo que no es necesario considerar demasiado la forma del objeto a limpiar. Además, el efecto de limpieza en estas áreas difíciles de limpiar es similar o incluso mejor que el de la limpieza con freón.
5) La limpieza con plasma puede mejorar considerablemente la eficiencia de la limpieza. Todo el proceso de limpieza se completa en pocos minutos, lo que le confiere un alto rendimiento.
6) El grado de vacío necesario para la limpieza con plasma es de aproximadamente 100 Pa, lo cual es fácil de lograr. Por lo tanto, el costo del equipo es bajo y el proceso de limpieza no requiere el uso de solventes orgánicos costosos, lo que reduce el costo total en comparación con el proceso tradicional de limpieza en húmedo.
7) La limpieza por plasma evita el transporte, almacenamiento y descarga de fluidos de limpieza, por lo que el sitio de producción es fácil de mantener limpio e higiénico;
8) La limpieza por plasma se puede utilizar independientemente del objeto a tratar. Permite tratar diversos materiales, ya sean metales, semiconductores, óxidos o polímeros (como polipropileno, cloruro de polivinilo, politetrafluoroetileno, poliimida, poliéster, resina epoxi y otros polímeros). Por lo tanto, es especialmente adecuada para materiales resistentes al calor y a los disolventes. Además, permite limpiar selectivamente la estructura total, parcial o compleja del material.
9) Al completar la limpieza y descontaminación, también se pueden mejorar las propiedades superficiales del material. Por ejemplo, mejorar la humectabilidad de la superficie y la adherencia de la película es fundamental en muchas aplicaciones.
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