Evaporación por haz de electrones

La evaporación por haz de electrones es un tipo de deposición física de vapor. A diferencia de los métodos de evaporación tradicionales, la evaporación por haz de electrones utiliza la coordinación de campos electromagnéticos para lograr con precisión el uso de electrones de alta energía para bombardear el material objetivo en el crisol, fundirlo y depositarlo sobre el sustrato. La evaporación por haz de electrones permite depositar películas de alta pureza y precisión.

La evaporación por haz de electrones utiliza electrones acelerados para bombardear el material de recubrimiento. La energía cinética de los electrones se convierte en energía térmica para calentar y evaporar el material de recubrimiento y formar una película. Los cañones de electrones se dividen en tipos directos, de anillo y E. Las características de la evaporación por calentamiento por haz de electrones son que puede alcanzar una densidad de energía extremadamente alta, hasta 109 W/cm², y la temperatura de calentamiento puede alcanzar 3000-6000 ℃. Puede evaporar metales o compuestos refractarios; el material evaporado se coloca en un crisol refrigerado por agua para evitar la contaminación del material del crisol. La deposición por evaporación por haz de electrones puede preparar películas de alta pureza. Al mismo tiempo, se pueden colocar varios crisoles en el mismo dispositivo de deposición por evaporación para lograr la evaporación y deposición simultánea o separada de una variedad de sustancias diferentes. La mayoría de los materiales pueden evaporarse mediante evaporación por haz de electrones.

La evaporación por haz de electrones permite evaporar materiales con alto punto de fusión. Presenta mayor eficiencia térmica, mayor densidad de haz y mayor velocidad de evaporación que la evaporación por resistencia general. La película producida es de alta pureza y buena calidad. Su espesor se puede controlar con precisión. Se utiliza ampliamente para preparar diversas películas de materiales ópticos, como películas de alta pureza y vidrio conductor.

La evaporación por haz de electrones se utiliza a menudo para preparar películas de aleación u óxido de Al, CO, Ni y Fe, películas de SiO2, ZrO2 y películas de óxido resistentes a la corrosión y a altas temperaturas.

En términos de función, la tecnología de recubrimiento por haz de electrones tiene las siguientes características:

I) Recubrimiento de alta precisión: Puede lograr un control preciso del espesor y la composición de la película, preparando así películas con propiedades específicas.

2) Fuerte capacidad de ajuste: Las propiedades físicas y químicas de la película se pueden ajustar fácilmente para satisfacer las necesidades de diferentes aplicaciones.

3) Película de alta calidad: La película preparada tiene buena uniformidad, densidad y estabilidad.

4) Amplia gama de aplicaciones: es adecuado para el recubrimiento de una variedad de materiales, incluidos metales, semiconductores, óxidos, etc.