Sputtern.PVD
1. Die Magnetronsputtern-Beschichtung ist viel besser als die Lichtbogenionenbeschichtung und es gibt weniger grobe Tröpfchenpartikel.
2. Die Bindungskraft zwischen Film und Substrat ist besser als bei der Vakuumverdampfung. Bei der Vakuumverdampfungstechnologie ist die Energie der Atome in der Filmschicht nur die während der Verdampfung übertragene Wärmeenergie, die 0,01 bis 0,2 eV entspricht. Bei der Magnetronsputtern-Beschichtungstechnologie hingegen wird die Energie der Filmschichtpartikel durch Argonionen und die Oberflächenatome des Targets erzeugt. Der Austausch und der Impulsaustausch können die Bindungskraft zwischen Membran und Substrat verbessern.
3. Die Zusammensetzung der Filmschicht ähnelt der des Targetmaterials. Die Filmschicht wird beim Magnetronsputtern durch Argonionen vom Target gesputtert, und ihre Zusammensetzung ähnelt stark der des Targetmaterials. Das resultierende „Fraktionierungs-“ bzw. „Zersetzungs“-Phänomen ist im Vergleich zur Aufdampfung relativ gering. Beim Beschichten eines Funktionsfilms mit sehr hohen Leistungsanforderungen muss jedoch im Allgemeinen während des Sputterprozesses eine bestimmte Menge Reaktivgas zugegeben werden, damit die Zusammensetzung des Films dem stöchiometrischen Verhältnis entspricht und die Leistungsanforderungen des Films erfüllt werden.
4. Die Beschichtung weist eine gute Beschichtungsleistung auf. Der Vakuumdruck der Sputterbeschichtung ist niedrig. Die freie Weglänge der Gasmoleküle ist kurz, die Kollisionswahrscheinlichkeit hoch. Im Vergleich zur Aufdampfbeschichtung ist die Streufähigkeit der Filmpartikel stark, die Beschichtungsleistung gut und die Filmdicke gleichmäßig.
5. Ein Sputtertarget ist eine flächenförmige Beschichtungsquelle. Die Länge sowohl des ebenen Magnetron-Sputtertargets als auch des zylindrischen Magnetrontargets kann 300–3000 mm erreichen. Obwohl es sich bei beiden um lineare Beschichtungsquellen handelt, ermöglicht die kontinuierliche Bewegung des Werkstücks die Beschichtung großer Teileflächen. Wird eine Glasoberfläche mit einer Breite von 3300 mm mit einem Film beschichtet, entsteht eine gleichmäßige Filmschicht mit unterschiedlichen Farben und Transmissionsgraden. Magnetronsputtern wird häufig zur Abscheidung großflächiger dünner Filme eingesetzt.
6. Legen Sie eine Vorspannung an das Werkstück an. Zunächst wurde dies mit der Magnetron-Sputter-Technologie erreicht. Heutzutage wird die Magnetron-Sputter-Beschichtungstechnologie häufig auf Metallsubstraten eingesetzt. Das Anlegen einer negativen Vorspannung an das Werkstück zur Verbesserung der Filmschichtqualität hat sich zur gängigen Technologie für die Beschichtung spezieller Funktionsfilme und hochwertiger Dekorationsprodukte entwickelt.
