Grundprinzipien des Trockenätzens
1. Gasreaktion**: Beim Trockenätzen werden üblicherweise Gase wie Fluorid und Chlorid als Ätzmittel verwendet. Diese Gase reagieren im Plasmazustand mit dem zu ätzenden Material und bilden flüchtige Nebenprodukte.
2. Plasmaerzeugung**: Das Gas wird mittels Radiofrequenz- (RF) oder Mikrowellenanregung in Plasma umgewandelt. Im Plasma werden die Gasmoleküle ionisiert, wodurch freie Radikale und Ionen entstehen, die effektiv mit dem Material reagieren können.
3. Selektives Ätzen**: Trockenätzen ermöglicht eine hohe Selektivität und kann gezielt bestimmte Materialien entfernen, während andere Materialien unverändert bleiben. Dies ist besonders wichtig für die Bearbeitung komplexer Strukturen.
Anwendungen des Trockenätzens
- Halbleiterherstellung: Wird für die Musterübertragung auf Siliziumscheiben verwendet, um Schaltkreise zu bilden.
- MEMS-Fertigung: Strukturelle Bearbeitung mikroelektromechanischer Systeme.
- Optoelektronik: Herstellung optoelektronischer Komponenten wie Laser und Detektoren.
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