Resistiv fordampning

Vakuumfordampning, kaldet fordampning, refererer til procesmetoden til at fordampe belægningsmaterialet (eller filmmaterialet) og fordampe det ved en bestemt opvarmnings- og fordampningsmetode under vakuumforhold, og partiklerne flyver til overfladen af ​​substratet for at danne en film. Fordampning er en tidligere og mest udbredt dampaflejringsteknologi, som har fordelene ved en enkel filmdannende metode, høj renhed og kompakthed af tynd film og unik filmstruktur og ydeevne.

Den fysiske fordampningsproces indbefatter: fordampning eller sublimering af det aflejrede materiale til gasformige partikler → hurtig transport af gasformige partikler fra fordampningskilden til overfladen af ​​substratet → de gasformige partikler binder sig til overfladen af ​​substratet for at kernedannelse, vokse til en fast film → rekonstituering af tynde filmbindinger.

Substratet anbringes i et vakuumkammer og opvarmes med modstand, elektronstråle, laser og andre metoder til at fordampe eller sublimere filmmaterialet og fordampe det til partikler (atomer, molekyler eller klynger) med en vis energi (0,1~0,3eV). De gasformige partikler transporteres til substratet i en lineær bevægelse, der i princippet er kollisionsfri, og nogle af partiklerne, der når overfladen af ​​substratet, reflekteres, og den anden del adsorberes på substratet og spredes på overfladen, hvilket resulterer i todimensionelle kollisioner mellem de aflejrede atomer for at danne klynger på overfladen, og nogle kan derefter opholde sig i kort tid. Klynger af partikler kolliderer konstant med diffuse partikler, der enten adsorberer eller udsender enkeltpartikler. Denne proces gentages gentagne gange, og når antallet af opsamlede partikler overstiger en vis kritisk værdi, bliver den en stabil kerne, og fortsætter derefter med at adsorbere og diffundere partikler og vokser gradvist og danner til sidst en kontinuerlig tynd film gennem kontakt og sammensmeltning af tilstødende stabile kerner.

Mætningsdamptryk (PV): Det tryk, ved hvilket dampen fra det fordampede materiale i et vakuumkammer er i ligevægt med et fast stof eller en væske ved en bestemt temperatur. Sammenhængskurven mellem mætningsdamptryk og temperatur er af stor betydning for filmfremstillingsteknologi, som kan hjælpe os til rationelt at udvælge fordampningsmaterialer og bestemme fordampningsbetingelser.