Sputtering.PVD
1. Magnetron sputtering coating hè assai megliu cà arc ion coating, è ci sò menu particeddi goccia grossa.
2. A forza di ligame film-substrate hè megliu cà quellu di u revestimentu di evaporazione di u vacuum. In a tecnulugia di revestimentu di l'evaporazione di vacuum, l'energia di l'atomi in a capa di film hè solu l'energia di calore purtata durante l'evaporazione, chì hè equivalente à 00.1 ~ 0.2eV; mentre chì in a tecnulugia di rivestimentu di magnetron sputtering, l'energia di e particelle di a film hè generata da l'ioni d'argon è l'atomi di a superficia di u mira. U scambiu è u scambiu di momentu pò migliurà a forza di ubligatoriu di a membrana.
3. A cumpusizioni di a capa di film hè vicinu à u materiale di destinazione. A strata di film di magnetron sputtering hè sputtered da u mira da i ioni di argon, è a cumpusizioni di a capa di film hè assai vicinu à quella di u materiale di destinazione. U fenomenu di "frazionamentu" o "decomposizione" risultante hè relativamente ligeru cumparatu cù u plating per evaporazione. Tuttavia, in generale, quandu rivesti un film funzionale cù esigenze di prestazione assai strette, una certa quantità di gasu reattivu deve esse aghjuntu durante u prucessu di sputtering per fà chì a cumpusizioni di film cumposti di a film risponde à a ratio estechiometrica per assicurà e esigenze di rendiment di a film.
4. U revestimentu hà una bona prestazione di revestimentu. A pressione di vacuum di u revestimentu sputtering hè bassu. U percorsu liberu di e molécule di gas hè cortu, a probabilità di scontru hè alta, è paragunatu à u revestimentu di evaporazione, a capacità di scattering di particelle di film hè forte, u rendiment di u revestimentu hè bonu, è u spessore di film hè uniforme.
5. Sputtering target hè una fonte di rivestimentu tipu di zona. A durata sia di u scopu di sputtering di Magnetron pianu sia di u target di magnetron cilindrico pò ghjunghje à 300 ~ 3000 mm. Ancu s'è tramindui sò fonti di revestimentu lineari, accumpagnati da u muvimentu cuntinuu di a pezza di travagliu, pò esse rivestiti nantu à una grande zona di pezzi. Se un film hè chjapputu nantu à una superficia di vetru cù una larghezza di 3300 mm, una capa uniforme di film cù diversi culori è trasmittanza pò esse ottenuta. Magnetron sputtering hè stata largamente usata in u depositu di filmi sottili di grande area.
6. Aduprà tensione bias à u workpiece. À u principiu, in a tecnulugia di sputtering Magnetron. Oghje, a tecnulugia di rivestimentu di magnetron sputtering hè largamente usata nantu à sustrati metallici, è l'applicazione di tensione di preghjudiziu negativu à u pezzu di travagliu per migliurà a qualità di a strata di film hè diventata a tecnulugia mainstream per u rivestimentu di filmi funziunali speciali è prudutti decorativi high-end.
