Leave Your Message
1729488604552

النقش

تيكسون النقش الجاف

الحفر الجاف هو تقنية حفر شائعة الاستخدام في تصنيع أشباه الموصلات ومعالجة الإلكترونيات الدقيقة. بخلاف الحفر الرطب، لا يستخدم الحفر الجاف محاليل كيميائية سائلة، بل يستخدم تفاعلات الطور الغازي لإزالة المواد.

المبادئ الأساسية للحفر الجاف
١. تفاعل الغازات**: في النقش الجاف، تُستخدم عادةً غازات مثل الفلورايد والكلوريد كمواد نقش. تتفاعل هذه الغازات مع المادة المراد نقشها في حالة البلازما لتكوين نواتج ثانوية متطايرة.
٢. توليد البلازما**: يُحوَّل الغاز إلى بلازما عن طريق إثارة الترددات الراديوية (RF) أو الموجات الدقيقة. في البلازما، تتأين جزيئات الغاز لإنتاج جذور حرة وأيونات تتفاعل بفعالية مع المادة.
٣. النقش الانتقائي**: يُحقق النقش الجاف انتقائية عالية، ويُزيل مواد محددة بشكل انتقائي مع ترك مواد أخرى دون تغيير. وهذا مهم جدًا لمعالجة الهياكل المعقدة.
تطبيقات الحفر الجاف
- تصنيع أشباه الموصلات: تستخدم لنقل الأنماط على رقائق السيليكون لتشكيل الدوائر.
- تصنيع الأنظمة الكهروميكانيكية الصغرى: المعالجة الهيكلية للأنظمة الكهروميكانيكية الصغرى.
- الإلكترونيات البصرية: تصنيع المكونات الإلكترونية البصرية مثل الليزر وأجهزة الكشف.

الآلات ذات الصلة