Máquina de revestimento PECVD rolo a rolo
Breve descrição da máquina
A máquina de revestimento rolo a rolo PECVD serial JRP é uma máquina de revestimento a vácuo rolo a rolo que adota plasma para deposição química de vapor aprimorada (PECVD) para depositar vários filmes.
Uma das características marcantes das máquinas PECVD da série JRP é sua avançada tecnologia de plasma. Por meio de um processo aprimorado de deposição química de vapor, ela atinge propriedades de filme ideais, incluindo melhor adesão, uniformidade e densidade. O filme resultante não apenas atende, mas excede os padrões da indústria, dando ao seu produto uma vantagem competitiva.
Uma interface amigável e controles automatizados tornam a operação perfeita, permitindo ajustes rápidos e monitoramento em tempo real do processo de revestimento. Além disso, a máquina é projetada com eficiência energética em mente, reduzindo custos operacionais e minimizando o impacto ambiental.
Breve descrição da máquina
- .Estável em qualidade, grande capacidade de carga
- .Velocidade de revestimento rápida, boa uniformidade de filme e adesão.
- .Para formar filme em substratos rolantes flexíveis por PECVD.
- .Design otimizado, fácil de operar e fazer manutenção.
- .Adota eletrodo plano ou de rolo, equipado com fonte de alimentação de alta tensão, MF ou RF.
- .A largura do substrato varia de 350 mm a 2050 mm.
- .Baixos custos operacionais.
PARÂMETRO TÉCNICO
Serial | JRP |
Tecnologia | Deposição a vácuo PECVD |
Tamanho da câmara | A câmara de revestimento pode ser projetada mediante solicitação diferente |
Material do substrato | Película fina orgânica, como PET / BOPP / PEN / PI / PC / PE, tecido têxtil, couro, Substratos flexíveis, como folhas metálicas; |
Faixa de largura do substrato | 350 mm - 2050 mm |
Película de revestimento | Filme de alta barreira como SiO2, Si3N4 ou funcionalfilme como DLC, C; |
Sistema de vácuo | O sistema de vácuo seleciona bombas moleculares (ou bombas de difusão) de marcas famosas internacionais ou chinesas, polifrio, bombas mecânicas, etc. |
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