Goresan
Prinsip asas etsa kering
1. Tindak balas gas**: Dalam etsa kering, gas seperti fluorida dan klorida biasanya digunakan sebagai etsa. Gas-gas ini bertindak balas dengan bahan yang akan terukir dalam keadaan plasma untuk membentuk hasil sampingan yang tidak menentu.
2. Penjanaan plasma**: Gas ditukar kepada plasma melalui pengujaan frekuensi radio (RF) atau pengujaan gelombang mikro. Dalam plasma, molekul gas diionkan untuk menghasilkan radikal bebas dan ion, yang boleh bertindak balas dengan berkesan dengan bahan tersebut.
3. Goresan terpilih**: Goresan kering boleh mencapai selektiviti tinggi dan boleh mengeluarkan bahan tertentu secara selektif sambil membiarkan bahan lain tidak berubah. Ini sangat penting untuk pemprosesan struktur kompleks.
Aplikasi etsa kering
- Pembuatan semikonduktor: Digunakan untuk pemindahan corak pada wafer silikon untuk membentuk litar.
- Pembuatan MEMS: Pemprosesan struktur sistem mikroelektromekanikal.
- Optoelektronik: Menghasilkan komponen optoelektronik seperti laser dan pengesan.
