Leave Your Message
1729488604552

Penyejatan Rasuk E

tecsun Penyejatan Rasuk Elektron

Penyejatan rasuk elektron ialah sejenis pemendapan wap fizikal. Tidak seperti kaedah penyejatan tradisional, penyejatan rasuk elektron menggunakan penyelarasan medan elektromagnet untuk mencapai penggunaan elektron bertenaga tinggi dengan tepat untuk membedil bahan sasaran dalam mangkuk pijar, mencairkannya dan kemudian mendepositkannya pada substrat. Penyejatan rasuk elektron boleh mendepositkan filem berketulenan tinggi dan berketepatan tinggi.

Penyejatan rasuk elektron menggunakan elektron dipercepatkan untuk mengebom bahan salutan. Tenaga kinetik elektron ditukarkan kepada tenaga haba untuk memanaskan dan menyejat bahan salutan dan membentuk filem. Senapang elektron dibahagikan kepada jenis langsung, cincin dan E. Ciri-ciri penyejatan pemanasan rasuk elektron ialah ia boleh memperoleh ketumpatan tenaga yang sangat tinggi, sehingga 109w/cm2, dan suhu pemanasan boleh mencapai 3000-6000 ℃. Ia boleh menyejat logam atau sebatian refraktori; bahan yang disejat diletakkan dalam mangkuk pijar yang disejukkan dengan air untuk mengelakkan pencemaran bahan pijar. Pemendapan penyejatan rasuk elektron boleh menyediakan filem ketulenan tinggi. Pada masa yang sama, pelbagai mangkuk pijar boleh diletakkan dalam peranti pemendapan sejatan yang sama untuk mencapai penyejatan dan pemendapan serentak atau berasingan bagi pelbagai bahan yang berbeza. Kebanyakan bahan boleh disejat dengan penyejatan rasuk elektron.
Penyejatan rasuk elektron boleh menyejat bahan takat lebur yang tinggi. Ia mempunyai kecekapan haba yang lebih tinggi, ketumpatan rasuk yang lebih besar, dan kelajuan penyejatan yang lebih cepat daripada penyejatan pemanasan rintangan umum. Filem yang dihasilkan mempunyai ketulenan yang tinggi dan kualiti yang baik. Ketebalan boleh dikawal dengan tepat. Ia boleh digunakan secara meluas untuk menyediakan pelbagai filem bahan optik seperti filem ketulenan tinggi dan kaca konduktif.
Penyejatan rasuk elektron sering digunakan untuk menyediakan filem aloi atau oksida bagi filem Al, CO, Ni, dan Fe, SiO2, ZrO2, dan filem oksida tahan kakisan dan tahan suhu tinggi.
Dari segi fungsi, teknologi salutan rasuk elektron mempunyai ciri-ciri berikut:
I) Salutan ketepatan tinggi: Ia boleh mencapai kawalan tepat ketebalan dan komposisi filem, dengan itu menyediakan filem dengan sifat khusus.
2) Kebolehlarasan yang kuat: Sifat fizikal dan kimia filem boleh diselaraskan dengan mudah untuk memenuhi keperluan aplikasi yang berbeza.
3). Filem berkualiti tinggi: Filem yang disediakan mempunyai keseragaman, ketumpatan dan kestabilan yang baik.
4) Pelbagai aplikasi: Ia sesuai untuk salutan pelbagai bahan, termasuk logam, semikonduktor, oksida, dll.

Mesin Berkaitan