Rodillo de evaporación con alimentación de alambre para...
La máquina metalizadora de la serie JRW es una máquina de recubrimiento por evaporación continua de alta eficiencia. Se utiliza para una producción rápida y por lotes. La máquina adopta el modo de alimentación de alambre continuo y calienta el material de recubrimiento por evaporación mediante un bote de evaporación para lograr el proceso de deposición.
Sputter de magnetrón multicámara...
La máquina de recubrimiento por laminación de múltiples cámaras de vacío de doble rodillo TS-JRC está especialmente diseñada para el recubrimiento multicapa de alto rendimiento. La máquina tiene dos cámaras en las que se pueden instalar 12 cámaras de recubrimiento al vacío y 24 cátodos que realizan recubrimientos de película gruesa o complicada.
Rodillo de pulverización catódica multicámara para...
Es un equipo de recubrimiento continuo de rollo a rollo que se desarrolló especialmente para el recubrimiento de productos de múltiples capas de alto rendimiento o el recubrimiento de alta velocidad. Hay cámaras múltiples de un solo rodillo o cámaras múltiples de rodillos dobles. Las cámaras múltiples de un solo rodillo están equipadas con 6 posiciones de destino de cátodo, hasta instalar 12 piezas de cátodos. Las cámaras múltiples de rodillos dobles pueden tener 12 posiciones de destino de cátodos, hasta instalar 24 piezas de cátodos. Puede lograr un recubrimiento de película compleja o película gruesa de múltiples capas.
Pulverización catódica en cámara de vacío única...
La recubridora de rodillos por pulverización catódica de la serie JRC es un tipo de máquina de metalización al vacío compacta de rodillo a rodillo, con sistema de bobinado y sistema de recubrimiento instalados en la misma cámara y un alto grado de automatización. El tamaño se puede diseñar de acuerdo con productos de diferentes anchos.
1>Puede recubrir películas conductoras de Cu, Ag, Cr, Ni, Au, Mo, Si, ITO, C, etc.
2>Puede recubrir películas de aleación de NiCr, NiCu, InSn, etc.
3>También puede recubrir películas de SiO2, Nb2O5, Al2O3, CrO, TiO2.