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Aguafuerte

tecnologia Grabado en seco

El grabado en seco es una técnica de grabado que se utiliza habitualmente en la fabricación de semiconductores y en el procesamiento de microelectrónica. A diferencia del grabado húmedo, el grabado en seco no utiliza soluciones químicas líquidas, sino reacciones en fase gaseosa para eliminar materiales.

Principios básicos del grabado en seco
1. Reacción de gases**: En el grabado en seco, se suelen utilizar gases como fluoruro y cloruro como reactivos de grabado. Estos gases reaccionan con el material que se va a grabar en estado de plasma para formar subproductos volátiles.
2. Generación de plasma**: El gas se convierte en plasma mediante excitación por radiofrecuencia (RF) o por microondas. En el plasma, las moléculas de gas se ionizan para producir radicales libres e iones, que pueden reaccionar eficazmente con el material.
3. Grabado selectivo**: El grabado en seco puede lograr una alta selectividad y puede eliminar selectivamente materiales específicos sin modificar otros materiales. Esto es muy importante para el procesamiento de estructuras complejas.
Aplicaciones del grabado en seco
- Fabricación de semiconductores: se utiliza para la transferencia de patrones en obleas de silicio para formar circuitos.
- Fabricación de MEMS: Procesamiento estructural de sistemas microelectromecánicos.
- Optoelectrónica: Fabricación de componentes optoelectrónicos como láseres y detectores.

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